等離子清洗機(jī)是將氣體電離產(chǎn)生等離子體對(duì)工件進(jìn)行表面處理，無論是進(jìn)行清洗還是表面活化，為達(dá)到更佳的處理效果我們會(huì)選用不同的工藝氣體，那么等離子清洗機(jī)的常用工藝氣體有哪些，又該如何選擇呢？今天就為大家分享一下相關(guān)基礎(chǔ)知識(shí)，供大家分享。

　　等離子清洗機(jī)常用的工藝氣體有氧氣、氬氣、氮?dú)?、壓縮空氣、二氧化碳、氫氣、四氟化碳等。

　　1氧氣是等離子清洗常用的活性氣體，屬于物理+化學(xué)的處理方式，電離后產(chǎn)生的離子體能夠?qū)Ρ砻孢M(jìn)行物理轟擊，形成粗糙表面。同時(shí)高活性的氧離子能夠與被斷鍵后的分子鏈發(fā)生化學(xué)反應(yīng)形成活性基團(tuán)的親水表面，達(dá)到表面活化的目的；被斷鍵后的有機(jī)污染物的元素會(huì)與高活性的氧離子發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成CO、CO2、H2O等分子結(jié)構(gòu)脫離表面，達(dá)到表面清洗的目的。

　　氧氣主要應(yīng)用于高分子材料表面活化及有機(jī)污染物去除，但不適用于易氧化的金屬表面。

　　真空等離子狀態(tài)下的氧等離子呈現(xiàn)淡藍(lán)色，部分放電條件下類似白色。放電環(huán)境光線比較亮，肉眼觀察時(shí)可能會(huì)出現(xiàn)看不到真空腔體內(nèi)有放電的情況。

　　2氫氣與氧氣類似，屬于高活性氣體，可以對(duì)表面進(jìn)行活化及清洗。氫氣與氧氣的區(qū)別主要是反應(yīng)后形成的活性基團(tuán)不同，同時(shí)氫氣具有還原性，可用于金屬表面的微觀氧化層去除且不易對(duì)表面敏感有機(jī)層造成損壞。所以在微電子、半導(dǎo)體及線路板制造行業(yè)使用較廣。

　　因氫氣為危險(xiǎn)性氣體，未被電離時(shí)與氧氣匯合會(huì)發(fā)生自爆，所以在等離子清洗機(jī)中通常是禁止兩種氣體混合使用的。

　　真空等離子狀態(tài)下氫等離子呈紅色，與氬等離子類似，要相同的放電環(huán)境下比氬等離子顏色略深。

　　3氮?dú)怆婋x形成的等離子體能夠與部分分子結(jié)構(gòu)發(fā)生鍵合反應(yīng)，所以也是一種活性氣體，但相對(duì)于氧氣和氫氣而言，其粒子比較重，通常情況下在等離子清洗機(jī)應(yīng)用中會(huì)把此氣體界定在活性氣體氧氣、氫氣與惰性氣體氬氣之間的一種氣體。在清洗活化的同時(shí)能夠達(dá)到一定轟擊、刻蝕的效果，同時(shí)能夠防止部分金屬表面出現(xiàn)氧化。

　　氮?dú)馀c其他氣體組合形成的等離子體通常會(huì)被應(yīng)用于一些特殊材料的處理。

　　真空等離子狀態(tài)下氮等離子也是呈紅色，在相同的放電環(huán)境下，氮等離子會(huì)比氬等離子和氫等離子更亮一些。